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非接触式膜厚测量仪E-80
    发布时间: 2025-04-02 17:40    

高精度非接触式光学膜厚测量仪 E-80






一、产品描述: 

     本产品采用白光共焦技术与光纤传感系统,专为解决高反光、高透光材质(如玻璃镀层、金属薄膜、树脂涂层)的精准测量难题而设计。通过非接触式光学测量(分辨率达20nm)与高速采样技术(20µs/点),可快速获取膜厚、轮廓、断差等关键数据,支持CPK统计分析与自动化批量检测,显著提升工业质检效率与良品率。



二、技术: 

✅ 抗干扰强:光纤传感器实现电-光隔离,避免电磁干扰

✅ 零损伤测量:非接触式技术保护脆弱样品表面


✅ 高效稳定:Y向自动测量+微米级机械精度(重复精度1μm)


✅ 复杂场景适配:自动校准高反光/透明材质,消除传统接触式误差



三、设备技术参数:


分类

参数详情

光学系统

- 测量原理:白光共焦光谱分析


- 光源类型:高稳定性LED宽谱光源


- 分辨率:20nm(标样)


- 线性度:±0.05% F.S.

机械性能

- 行程范围:X/Y/Z 130mm×90mm×50mm


- 定位精度:±1.5μm


- 最大扫描速度:30mm/s


- 最小步距:1μm

环境适应性

- 工作温度:10~40℃


- 湿度范围:20%~80% RH(无冷凝)


- 抗振动:≤0.5G (10-200Hz)

数据输出

- 接口类型:USB 3.0/千兆以太网


- 软件功能:3D轮廓重建、CPK分析、SPC数

据导出(Excel/CSV)

电源与功耗

- 输入电压:AC220V±10%, 50-60Hz


- 整机功率:≤300W


- 安全认证:CE/ROHS/FCC

光学系统

- 测量原理:白光共焦光谱分析


- 光源类型:高稳定性LED宽谱光源


- 分辨率:20nm(标样)


- 线性度:±0.05% F.S.

机械性能

- 行程范围:X/Y/Z 130mm×90mm×50mm


- 定位精度:±1.5μm


- 最大扫描速度:30mm/s


- 最小步距:1μm



四、应用场景: 

1、半导体封装:

芯片焊膏厚度测量(0.1~200μm)

BGA球顶高度一致性检测

晶圆表面钝化膜厚度分析


2、光学镀膜:

增透膜/反射膜分层厚度测量(透明玻璃基底)

滤光片膜层均匀性检测


3、3C电子制造:

手机盖板玻璃AG涂层厚度控制

PCB阻焊油墨厚度在线监测


4、汽车工业:

动力电池极片涂布厚度检测

电泳漆膜厚自动化批量抽检




五、与传统接触式测量仪对比优势


精度提升:±0.1μm → ±20nm(标样) 速度提升:手动单点测量 → 30mm/s连续扫描 损伤率降低:接触压力导致划痕 → 零接触无损伤 复杂材质兼容:仅适用哑光表面 → 支持镜面/透明材质